Opis produktu

Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV to niezastąpione narzędzie w niezbędniku każdego fotografa. Nie tylko skutecznie ochroni Twój sprzęt przed kurzem, zanieczyszczeniem i uszkodzeniami mechanicznymi, ale także pomoże poprawić jakość zdjęć. Dzięki wielowarstwowej powłoce HMC (Hard Multi-Coated) oraz zastosowaniu japońskiego szkła optycznego, filtr gwarantuje redukcję odbić i odblasków, poprawiając kontrast i wyrazistość fotografii. Ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega występowaniu efektu winietowania. W zestawie znajdziesz również plastikowe etui, które zapewni odpowiednią ochronę filtra w transporcie.

Główne cechy produktu

• filtr UV kompatybilny z gwintem 55 mm
• chroni obiektyw przed kurzem, zanieczyszczeniem i odciskami palców
• dodatkowa ochrona przed uszkodzeniami mechanicznymi przedniej soczewki obiektywu
• redukuje efekty promieniowania UV, poprawiając jakość zdjęć
• idealny do fotografii krajobrazowej – eliminuje zamglenia atmosferyczne
• wykonany z wysokiej jakości japońskiego szkła optycznego
• 18-warstwowa powłoka HMC (Hard Multi-Coated)
• ultracienka ramka (3,3 mm grubości) zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych
• etui ochronne w zestawie

Doskonała ochrona obiektywu

Twój obiektyw zasługuje na najlepszą ochronę. Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV nie tylko skutecznie zabezpieczy go przed odciskami palców, kurzem i zarysowaniami. Będzie również dodatkową barierą chroniącą przed uszkodzeniami mechanicznymi, zupełnie jak folia naklejona na ekran smartfona.

Ochrona przed promieniowaniem UV

Promieniowanie UV, obecne w otoczeniu nawet w pozornie idealnych warunkach pogodowych, może powodować niepożądane efekty, takie jak zamglenia, spadek kontrastu lub nieostrość zdjęć. Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV działa jak niewidzialna bariera, przez którą przepuszczane jest światło. Eliminuje wpływ promieniu UV na Twoje zdjęcia, pozytywnie oddziałując na klarowność obrazu.

Powłoka HMC

Skrót "HMC" w przypadku filtrów do obiektywów oznacza "Hard Multi-Coated", czyli wielowarstwową powłokę. Jej zastosowanie ma na celu poprawę jakości obrazu poprzez redukcję odbić, odblasków oraz flar. Zastosowanie wielu warstw umieszczonych po obu stronach filtra pomaga zredukować zamglenia atmosferyczne, pozytywnie wpływając na kontrast i wyrazistość Twoich fotografii. Wybierając filtr K&F Concept Nano-C HMC UV uzyskasz jeszcze lepszą jakość zdjęć, redukując zniekształcenia i niedoskonałości.

Japońska jakość

Sercem filtra UV K&F Concept Nano-C HMC UV jest japońskie szkło, znane na całym świecie z precyzji wykonania i wysokiej jakości. Zapewnia ono długotrwałe użytkowanie i świetną transmisję światła bez żadnych kompromisów. Wielowarstwowa powłoka, jaką oferuje filtr, skutecznie pozwoli pozbyć się ze zdjęć niechcianych efektów świetlnych, gwarantując czyste i klarowne kadry.

Ultracienki profil

Supercienka ramka filtra UV K&F Concept Nano-C HMC UV ma zaledwie 3,3 mm grubości. Dzięki temu nie musisz martwić się o efekt winietowania, nawet wtedy, gdy korzystasz z długich teleobiektywów, oferujących duże ogniskowe. Twoje kadry pozostaną klarowne i wyraźne, zachowując pełną przejrzystość –zarówno przy zbliżeniach, jak i bardzo szerokich kadrach.

Kompatybilność

• obiektywy z gwintem mocowania filtrów o przekątnej 55 mm

Specyfikacja

• model: filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV - 55 mm
• typ filtra: UV
• zastosowana powłoka: Hard Multi-Coated (18 warstw)
• grubość: 3,3 mm
• średnica: 55 mm

Zawartość zestawu

• filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV - 55 mm
• etui ochronne